真空镀膜机的厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没(mei)有(you)任何障碍。 

但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也是说要实现10A甚至1A的表面平整。真(zhen)(zhen)空(kong)镀(du)膜(mo)(mo)机(ji)在薄膜(mo)(mo)中，化合物(wu)的(de)(de)(de)(de)原(yuan)子(zi)组(zu)分会由于尺度过小而(er)很容易的(de)(de)(de)(de)产生不均匀特性(xing)，SiTiO3薄膜(mo)(mo)，如果(guo)镀(du)膜(mo)(mo)过程不科(ke)学(xue)，那(nei)么实际表面的(de)(de)(de)(de)组(zu)分并不是(shi)(shi)(shi)(shi)SiTiO3，而(er)可能是(shi)(shi)(shi)(shi)其他的(de)(de)(de)(de)比例，镀(du)的(de)(de)(de)(de)膜(mo)(mo)并非是(shi)(shi)(shi)(shi)想(xiang)要的(de)(de)(de)(de)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)化学(xue)成(cheng)分，这(zhei)也是(shi)(shi)(shi)(shi)真(zhen)(zhen)空(kong)镀(du)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)技(ji)术含量所在。真(zhen)(zhen)空(kong)镀(du)膜(mo)(mo)机(ji)的(de)(de)(de)(de)晶(jing)格(ge)有序度的(de)(de)(de)(de)均匀性(xing)：这(zhei)决定了(le)薄膜(mo)(mo)是(shi)(shi)(shi)(shi)单晶(jing)，多晶(jing)，非晶(jing)，是(shi)(shi)(shi)(shi)真(zhen)(zhen)空(kong)镀(du)膜(mo)(mo)技(ji)术中的(de)(de)(de)(de)热点(dian)问(wen)题，具(ju)体见下(xia)。

真空镀(du)膜(mo)机的操(cao)作程序

① 检查真空镀膜机各(ge)操(cao)作控制开(kai)关(guan)是否在"关(guan)"位(wei)置。

② 打开总电源开关，设备送电。

③ 低压阀(fa)(fa)拉出。开充气阀(fa)(fa)，听不到气流声(sheng)后，启动(dong)升(sheng)钟(zhong)罩阀(fa)(fa)，钟(zhong)罩升(sheng)起。

④ 安装固定钨螺旋加(jia)热子。把PVDF薄膜和铝盖(gai)板固定在(zai)转动圆(yuan)盘上。把铝丝(si)穿放在(zai)螺旋加(jia)热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂(za)质污物。

⑤ 落下钟罩(zhao)。⑥ 启动抽真空机械泵(beng)。

⑦ 开复合真空计电源a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。b.低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋(xuan)钮"1"旋(xuan)转至指(zhi)向2区(qu)段(duan)测量位(wei)置。

⑧ 当低(di)真(zhen)空表“2”内指针再次顺时(shi)针移(yi)动(dong)至(zhi)6.7Pa时(shi)，低(di)压阀(fa)推入。这时(shi)左旋钮“1”旋转至(zhi)指向1区(qu)段测量位置。

⑨ 真空镀膜机(ji)开通冷却水，启动扩散泵，加(jia)热40min。

⑩ 低压阀拉出。重复一次⑦动作(zuo)程序：左下旋(xuan)钮“1”转至指(zhi)(zhi)向2区段测(ce)量位置。低真(zhen)空表“2”内指(zhi)(zhi)针(zhen)顺(shun)(shun)时针(zhen)移动，当指(zhi)(zhi)针(zhen)移动至6.7Pa时，开(kai)高压阀（阀杆顺(shun)(shun)时针(zhen)旋(xuan)转）。

⑪ 等低(di)真空(kong)表“2”内指(zhi)(zhi)针右(you)移动至(zhi)0.1Pa时，开规管灯(deng)丝开关(guan)。a. 发(fa)射、零(ling)点测(ce)量钮“9”旋(xuan)转(zhuan)至(zhi)指(zhi)(zhi)向(xiang)(xiang)发(fa)射位(wei)置。b. 左下旋(xuan)钮“1”旋(xuan)转(zhuan)至(zhi)指(zhi)(zhi)向(xiang)(xiang)1区段(duan)测(ce)量位(wei)置。